AWWA ACE65116
比較 UV-H2O2 和 UV-HOCl/OCl 氧化過程對(duì)水性硝基苯的光降解作用

Comparing UV-H2O2 and UV-HOCl/OCl- Oxidation Processes for Aqueous Nitrobenzene Photodegradation

標(biāo)準(zhǔn)號(hào)

AWWA ACE65116

發(fā)布

1970年

發(fā)布單位

SCC

當(dāng)前最新

AWWA ACE65116

 

 

適用范圍

此 powerpoint 演示文稿解釋了無(wú)論 pH 值如何，氯在 LPUV 照射的水中光降解速度都比 H₂O2 更快；OH 是氯和 H₂O₂ 的光產(chǎn)物；在酸性氯溶液中，更多的 OH 可用于氧化有機(jī)污染物；NB 在 pH 為 5 的 LPUV 照射氯化溶液中的 OH 氧化最快；暴露于 LPUV 的 pH 5 氯化溶液中形成的 4-、3- 和 2-硝基苯酚較少；HPLC 光電二極管陣列（pH 5 游離氯）檢測(cè)到多個(gè)未知物；將溶液調(diào)節(jié)至 pH 5 時(shí)，UV-Cl₂ 是能耗最低的 UV-AOP；無(wú)論添加何種氧化劑，要氧化砂濾后的水中 4.5 µM 的 NB，都需要較大的紫外線能量密度 (>1200 mJ cm^-2)；相對(duì)于燈能成本，UV-HOCl/OCl^- 和 UV-H₂O₂ 的氧化劑成本都很??；并且，增加初始 H₂O₂ 劑量 (2.1 至 5.1 mg/L) 可顯著降低所需的紫外線能量密度 (9360 至 4065 mJ cm^-2)。包括 4 個(gè)參考文獻(xiàn)、圖表。

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