正因為這些優(yōu)點,使ICP-MS分析技術(shù)廣泛應(yīng) 用于半導(dǎo)體工業(yè)用高純材料的痕量雜質(zhì)分析中.主要進行的高純材料分析1. IC硅片表面雜質(zhì)分析2. 光伏多晶硅、單晶硅雜質(zhì)分析3. 三氯氫硅、四氯化硅: ICP.MS法測定高純四氯化硅中們、V、cr、‘ Co、Ni、Cu、Pb、Zn、Mn九種金屬元素.4....
ICP-MS技術(shù)尤其四極桿型ICP-MS技術(shù)具備極低的檢測限和快速多元素測定功能,已逐漸成為半導(dǎo)體行業(yè)污染分析實驗室的標(biāo)準(zhǔn)技術(shù),在硅片表面雜質(zhì)分析、超純水、超純試劑分析、高純氣體分析等多個方面應(yīng)用廣泛。目前,半導(dǎo)體行業(yè)所使用的ICP-MS基本被美國及日本廠商壟斷。...
高純金屬中痕量元素的檢測方法應(yīng)具有極高的靈敏度,痕量元素的化學(xué)分析系指1g樣品中含有微毫克級(10-6g/g)、毫微克級(10-9g/g)和微微克級(10-12g/g)雜質(zhì)的確定。隨著各學(xué)科研究的深入,待測元素含量越來越低,普通的滴定分析等無法準(zhǔn)確測定痕量元素,因此促進了儀器測試技術(shù)不斷發(fā)展,痕量、超痕量多元素的同時或連續(xù)測定已成為可能。...
因此,ICP-MS被廣泛應(yīng)用于材料、食品安全、地質(zhì)、醫(yī)藥和環(huán)境分析等領(lǐng)域。本文主要利用ICP-MS法,同時測定了水中的鈹、硼、鋁、鈦、釩、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋅、砷、硒、鉬、鎘、銻、鋇、鉈、鉛等20中金屬元素。2. 實驗部分2.1 實驗儀器及材料主要儀器:Agilent 7700x ICP-MS儀(美國安捷倫公司)、高純氬氣、氦氣100ml容量瓶、Milli-Q超純水儀、移液槍、容量瓶。...
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